目的：光応用技術研修会は、オプトメカトロニクス技術関連の若手技術者育成に対しての導入教育の役割をもち、光技術の全体にわたる概括的講義を網羅して、その分野の概要をつかむことを目的としております。
このような観点から、光に関連するメーカーと学識経験者のご協力を得て、1963年（昭和38年）以来、2020年を除き毎年開催しており、これまでに約10,500名が受講されております。
オプトメカトロニクス産業の変革に対応していける基本知識とビジョンをもった技術者の養成は、欠くことのできないものであり、本研修会を社員教育の一環として取り入れている企業もございます。
光学の基礎から応用、周辺技術までを学べる本研修会に、ぜひ多数ご参加いただきますようお願い申し上げます。

【本研修会の特色】

（1）社内の光学研修を受けた方でも、さらに知識を広げ深めていただけるように、本研修会は光学技術全体を網羅しており、かつ著名で実務経験の豊富な一流の講師陣から重要なポイントを解説いたします。

（2）基礎から応用まで特別講演を除く27科目を対象にテストを実施いたします。

全ての科目についてテストを受けられた方には、修了証書を発行いたします。

（3）報告書、模範解答、答案用紙、テスト成績表、修了証書を申込責任者宛に送付しますので、受講者の研修効果を知ることができます。

但し、ご希望によりテストを受けずに受講だけでも可能です。

講義日：2025年6月3日（火）～5日（木）／9日（月）～12日（木）予定　[計7日間]
時間：9:00～17：20（初日の始まりは10時、終了時間は日にちによって異なります。）
仮想会場：Microsoft Teams

テスト日：2025年7月10日（木）～11日（金）　[計2日間]
時間：10:00～17:00
会場：機械振興会館 6階66・67号室（東京都港区芝公園3-5-8）　会場案内
講義内容：

テスト成績表を発行いたしますので、申込責任者は人事部もしくは上司の方がご登録されますようお願い申し上げます。
1）申込責任者様宛には報告書、模範解答、テスト成績表をご送付いたします。
2）受講者には報告書、模範解答、答案用紙、修了証書をご送付いたします。

定員：90名
参加費：（テキスト代を含む）

目的：最近は光学教育に対するニーズが高まる中で、光学特有の難解な数式や専門用語が障壁となって、光学の初学者にとっては理解しがたい分野と受け止められがちです。
そこで本講座では極力数式に頼らず、特別な知識がなくともに光学に対するイメージを掴みやすくする工夫に配慮して、図などをふんだんに用いて光学の基礎や考え方が十分理解できるように解説いたします。講師は光学製品の開発に多く携わり、かつ光学教育にも携わる齋藤晴司氏にお願いしました。
これから光学の基礎を学ぼうとする方、光学を専門としないが、そのエッセンスを体得したい方には最適な技術講座です。

【主な受講対象者】
メカ／エレキ、知的財産、特許関連、材料開発、SE、営業関連、初めて光学の知識を学びたい方など。

会期：2025年10月予定　[計2日間]
時間：初日；10:00～17:00　二日目；９:00～15:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：齋藤晴司氏（元 株式会社ニコン ビジネススタッフセンター 人事部 能力開発室 主幹）
講義内容：

1．光の性質

2．レンズの働き

3．レンズの収差

4．像の評価

5．光学部品の機能

6．光学的特性を利用したもの

7．光学製品と自然光

　　

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）

目的：各部品の図面で付加する公差の値がなぜその値であるか、またコストを考えた時の公差の最適化（どのように決めるか）を考えます。更に、製造や組み立て調整といった工程での誤差についての必要技術を考える為のツールを解説します。部品点数が複数になれば構造上から部品ごとにそのバラツキの影響度が変わります。組み立て品の総合誤差に影響する部品ごとの影響度合いを「寄与率」として求める方法について解説します。影響度が少ない部品については、公差をゆるめることによりコストを下げられる事になります。更に、計測するときには、様々な測定器を使用しますが、複数回計測をすると必ず計測値に違いが出ます。では計測結果としてどの値を採用すれば良いのでしょうか？そもそもなぜ測定値にバラツキが出るのでしょうか？いろいろな原因が考えられますがその一つに、計測器そのものに誤差がついています。例えば、この計測器は精度1％などといった値です。また、測定技術としてこの測定をする時には、どうしても2％程度の人による誤差が出ることが経験上分かっているなどと言ったときに、発生する総合誤差はどの程度出るものかを見積もる方法などについて解説します。

なお、講義中は座学だけでなく、光学、機械、電気系の公差設定の課題を実習して、どの公差をどの程度変更したら目標とする範囲に入れるのかも求めていきます。手計算での実習（関数電卓使用）をして頂きます。また、エクセルでの自動計算アルゴリズム例を説明して手順の理解を深めて頂きます。

会期：2025年12月予定［計2日間］

時間：初日；10:00～17:00　二日目；9:00～15:00

会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：齋藤晴司氏（元 株式会社ニコン ビジネススタッフセンター 人事部 能力開発室 主幹）

講義内容：

定員：25名（うち対面は先着順で10名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：光学系の製造は非常に難しく、結像性能に影響を与える様々な課題が発生します。
本講座では、試作から量産に至るまでの製造誤差が引き起こす具体的な課題の主な原因を理解することを目的としています。
また、光学系の基本概念と製造誤差の種類についても説明します。
これにより、実際のレンズ系の試作・製造業務に役立てていただくことを目指しています。

会期：2026年4月予定　［半日］
時間：13:00～17:00
会場：機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

講師：村田安規氏（チームオプト株式会社／ムラタオプティクス）
講義内容：

0．はじめに
1．収差に関する基礎知識
2．光学系の構成
3．製造誤差の種類
4．光学測定について
5．製造誤差敏感度（感度特性）について
6．光学調整（収差バランス補正）例
7．ディフォーカス特性取得は光学系の課題を解析するのに有効
8．光学シミュレーション（光学ソフトによる座標系の違い
9．まとめ

定員：16名
参加費：（テキスト代を含む）　（予定）

目的：本講座は照明系の基礎と設計の応用例を広く俯瞰し、新たな発展の契機にしようとするものである。これまであまり紹介されることの無かった光源のコヒーレンス特性と放射特性の関係に関する（エンジニアにとってはやや意外な）理論の紹介を含んでおり、広範な分野の技術者・研究者に興味を持っていただけるものと思う。

会期：2025年7月23日（水）［1日］

時間：9：30～17:40

会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：

宮前博氏（チームオプト株式会社／光学技術コンサルタント）

大谷友昭氏（日本シノプシス合同会社）

大橋祐介氏（サイバネットシステム株式会社）

牛山善太氏（株式会社タイコ代表取締役社長）

白井智宏氏（国立研究開発法人産業技術総合研究所 上級主任研究員）

講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では、基礎原理に基づいた最適な機種選定やシステム構築、照明系の特徴や役割を踏まえた観察方法、さらに話題の超解像顕微鏡の原理などをわかりやすく学んでいただくことを目的としております。
顕微鏡ユーザーやシステム導入を検討中の方など、多くの方のご参加をお待ちしております。

会期：2026年2月予定　［1日］
時間：10:00～16:55
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：

阿部勝行氏（株式会社エビデント 開発部門）
西脇大介氏（株式会社エビデント　開発部門 先進技術 先進光学 課長）
船岡隆幸氏（株式会社ニコン　ヘルスケア事業部 技術統括部 設計部 第二設計）
大内由美子氏（株式会社ニコン　光学本部 第一設計部 部長）
大西秀太朗氏（株式会社ニコン　ヘルスケア事業部 技術統括部 システム開発部 第一開発課）

講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、LEDと半導体レーザーについて、その動作原理を理解し、いろいろな応用においてどのような使われ方をしているのかを学ぶことによって、発光デバイスの基礎と応用を習得することを目的としています。光学が関わる領域を中心としますが、半導体、量子力学も避けては通れないため、必要な部分についてわかりやすく解説します。LEDや半導体レーザーの応用分野に関わる技術者、研究者に役立つ内容です。

会期：2025年8月1日（金）　［1日］
時間：10:00～16:30
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：波多腰玄一氏（元 株式会社東芝　研究開発センター）
講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）

目的：本講座は、これから光学系を取り扱ったり、設計する仕事に携わろうとする初心者のために、軸理論を中心にした光学系の基礎理論を、体系的に理解してもらうことを目的として開催するものです。
とくに、収差論を学ぼうと考えておられる方々は、近軸理論についての理解が前段階として必要となります。

会期：2026年1月14日～2月4日（毎週水曜日）　［計4日間］
時間：10:00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：荒木敬介氏（元 キヤノン株式会社／宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授）

講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、専門性の高い内容となっておりますので、既にJOEM主催の「光学系基礎理論」技術講座（講師・荒木敬介先生）を受講された方、または実務で1～2年以上の光学設計に携わっている方を対象としております。
講義のほか演習を加え、受講生が光学設計における収差論の意義と役割を実際に体得されることを主眼にしています。多様な光学系に対する収差係数の正規化について統一的な理解ができるように配慮されています。

会期：

【収差論】2025年10月8日、22日、11月5日、19日、12月3日（隔週水曜日）　［計5日］
【偏心光学系の3次の収差論】2025年12月17日（水）　［1日］

時間：10:00～17:00
但し、”偏心光学系の3次の収差論”は、10:30～17:00となります。
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：荒木敬介氏（元 キヤノン株式会社／宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授）
講義内容：

【収差論】

【偏心光学系の3次の収差論】

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）
参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、専門性の高い内容となっておりますので、既にJOEM主催の「収差論」技術講座（講師・荒木敬介先生）を受講された方、または同等の実務経験のある方を対象としております。
講義のほか演習を加え、常につきまとう偏心の問題に適用できるよう配慮されています。

会期：2025年12月17日（水）　［1日］
時間：10:30～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：荒木敬介氏（元 キヤノン株式会社／宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授）
講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）

目的：本講座を受講することにより、光学設計者や光学加工技術者の方は自身で設計または製作した光学素子がどのように検査され、組み上げた光学系の波面収差がどのように計測されるのかを学ぶことができます。また光エレクトロニクス技術者や画像技術者の方は、現代干渉計測技術を知ることにより、光技術とエレクトロニクスのインテグレーションや画像処理や信号処理技術の応用のための実践的な方法論を学ぶことができます。光学、通信理論、画像・信号処理など専門分野を横断した広い視点から現代干渉計測技術の本質を学びたい方には適な技術講座ですので、多くの方のご参加をお待ちしております。

会期：2026年1月　予定　［1日］
時間：10:00～16:30
仮想会場：オンライン（Microsoft Teams）

講師：武田光夫氏（電気通信大学名誉教授）
講義内容：

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では偏光とは何か、というところからスタートして、偏光の基礎、様々な偏光素子について学んだ後、偏光計測およびイメージングの実用化技術を学ぶことを目的としています。

前半では、偏光状態を表現するストークス・パラメータと偏光素子を表現するミュラー行列を学ぶことで、すべての偏光を取り扱うことができます。後半では、偏光の高速・高精度計測法、昨今注目されている偏光カメラによるイメージング法まで講義します。実例として、環境、生物、光ディスク、液晶ディスプレイなどの工業製品、高分子の偏光や複屈折の応用例を交えながら、偏光検査方法を紹介します。
偏光の基礎、偏光カメラ、偏光イメージングなどを偏光技術の本質を学びたい方には最適な技術講座ですので、多くの方のご参加をお待ちしております。

会期：2025年11月予定　［1日］
時間：9:30～17:30
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：大谷幸利氏（宇都宮大学 先端光工学専攻／オプティクス教育研究センター 教授）
講義内容：

　

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では回折光学素子の最新の理論や技術、応用トピックスを紹介しつつ、今後の応用に役立たせて頂こうと企画したものである。特に回折光学素子の収差論での取り扱い、顕微鏡や眼内レンズへの応用の項目には新しい内容が含まれている。
回折光学素子にあまり馴染みのない方の基礎学習にも、設計、開発の経験のある方の新しい内容の習得にも役立つ内容となっている。光学、レンズ設計・開発に携わる多くの技術者の受講をお勧めしたい。

会期：2026年9月予定　［1日］
時間：10：00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：

宮前　博氏（チームオプト株式会社／光学技術コンサルタント）
荒木敬介氏（宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授）
丸山晃一氏（丸山光学研究所／元 ＨＯＹＡ株式会社）
中井武彦氏（キヤノン株式会社 イメージングコミュニケーション事業本部）
ラウ ツンデウオ氏（千葉大学 フロンティア医工学センター 特別研究員）

講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、波動としての光の性質の要点を、応用を意識した立場から短時間で学ぶものである。数式の記述も行うが、その結果をどのように解釈、応用するのかという観点に立った説明をしていく。
この分野を短時間に俯瞰したい、また更に詳細な内容を学ぶ足掛かりにしたい技術者には最適の講座である。

会 期：2025年8月予定　［1日］
時間：10:00～16:30
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：宮前　博氏（チームオプト株式会社／光学技術コンサルタント）
講義内容：

1章　波としての光
2章　干渉入門
3章　回折入門
4章　偏光入門
5章　光波の伝搬
6章　結晶と偏光素子

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）
参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は光技術の基礎である波動光学の全般に対して包括的な理解を 深めるためのものである。
まず広大な電磁波のスペクトルの中での光の位置づけと特長と基本的な性質を概観する。ついで光波の伝播および異なる媒質の境界における屈折・反射・透過に対する関係式とその物理的なイメージを説明する。
後半では多数の波の重ね合わせを扱う干渉、回折とその応用を述べる。
最後に以上の性質を複合したレンズ系やホログラフィによる結像の機構および性能を決める因子について議論する。以上の項目の全般にわたって、光のモデルと諸性質の間のつながりの理解および応用技術の基本原理の把握を重視して講義を進める予定である。

会期：2026年8月予定［計2日間］
時間：10:00～17:00
会場：機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

講師：山口一郎氏（国立研究開発法人理化学研究所 名誉研究員 PhD／元 群馬大学 工学部 教授）
講義内容：

＜主な対象（前提とする基礎知識）＞

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、光学系設計の基礎を学び、すでに知られているタイプからの初期データ製作だけでなく、新しいニーズに対応した初期のデータの作製手法、および、それをベースにした自動設計の利用法を学ぶことを第一の目的としています。また、自動設計理論とTolesプログラムの最適化技術を学ぶことも計画しています。

会期：2025年7月16日（水）～17（木）　［計2日間］
時間：【初日】10:00～16:20　【二日目】10：00～16：30
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：

村田安規氏（元 キヤノン株式会社）
金井守康氏（リコーイメージング株式会社 PENTAX事業部 開発統括部）
阿部勝行氏（株式会社エビデント 開発部門）
牛山善太氏（株式会社タイコ 代表取締役）
松岡和雄氏（HIT株式会社　代表取締役）

講義内容：

第1講　レンズ設計基礎　（村田先生）
第2講　双眼鏡レンズの設計　（金井先生）
第3講　顕微鏡レンズの設計　（阿部先生）
2日目

第4講　高倍率ズームレンズの設計　（牛山先生）
第5講　自動設計の理論　（牛山先生）
第6講　非球面レンズの設計　（松岡先生）
第7講　自動設計の実際（基礎編）　（松岡先生）
第8講　自動設計の実際（応用編）　（松岡先生）

＜主な対象（前提とする基礎知識）＞
本講座は光学の基礎知識を身に付けている方、専門知識を習得したい方を対象としております。

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）
参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では、ズームレンズの近軸理論的な部分から、ズームレンズ特有の収差バランスの取り方や誤差に関する考え方などについての基本的な知識、さらに最近のディジタルカメラ用ズームレンズについてのトピックス的事項などに関する講義に加え、計算機を用いた演習を通して、受講者の方々に感覚的に理解していただくことも意図しています。

会期：2025年10月予定　［計2日間］
時間：10:00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：福嶋　省氏（チームオプト株式会社／光学技術コンサルタント）
講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）

目的：本講座では、結像光学系、FD-OCT、フーリエ分光法、照明光の空間的コヒーレンスのどれか一つでも理解している人には、他の機器の原理もたちどころにわかってしまう、つまり結局同じ式で表わされるのだ、ということを理解してもらい、これまでなじみのなかった光学機器にも理解の幅を広げていただく、ということを目的としている。

会期：2025年5月12日（月）　［1日］
時間：10:00～16:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：志村　努氏（東京大学　生産技術研究所 基礎系部門 教授）
講義内容：

＜主な対象（前提とする基礎知識）＞

光学の基礎知識等があった方が望ましい。

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座の前半（第Ⅰ部）では、光と原子の相互作用というミクロな視点から、光散乱の発現メカニズム、その基本的な性質、自然界における不思議な散乱現象について直感的な理解ができるよう解説する。後半（第Ⅱ部）では、レイリー散乱、レイリー・デバイ散乱、ミー散乱と呼ばれる代表的な単散乱現象について数値計算から現象の理解を促し、実例に基づいて計測システムの開発の道筋を示す。
多重散乱については光子拡散理論に基づく拡散反射法を解説し、その応用としての実例を示しながら多重散乱現象解析の理解を促す。
本講座では、光散乱とその計測応用について、図を多用してわかりやすく解説することを目的とする。

会期：2025年6月17日（火）［1日］
時間：9:30～17:00
仮想会場：MicrosoftTeams

講師：

田所利康氏（有限会社テクノ・シナジー代表取締役）
岩井俊昭氏（東京農工大学名誉教授）

講義内容：

第Ⅰ部田所利康先生

第Ⅱ部岩井俊昭先生

＜主な対象（前提とする基礎知識）＞

これから光散乱を学びたいと思われる方、高校理科程度の基礎知識をお持ちの方（「光の教科書」等をお読みの方）など

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）

目的：本講座では、光散乱、特に散乱体が静止している場合の静的な散乱現象について、単散乱から多重散乱にわたって基礎と応用を体系的に講義する。内容としては、散乱理論の基本であるレイリー散乱、それを拡張して任意形状の散乱体に適用可能なレイリー･デバイ散乱、厳格な理論であるミー散乱、粗面からのレーザー散乱であるスペックル、そして生体組織や濃厚溶液のキャラクタリゼーションに利用される多重散乱である。内容は多岐にわたるが、理論式の導出と数値計算結果を詳細に説明し、その応用への展開を対応させることによって理解の発展を促す。

会期：2025年12月　予定　［1日半］
時間：【初日】13:00～17:00　【二日目】10：00～17：00
仮想会場：オンライン（Microsoft Teams）

講師：岩井俊昭氏（東京農工大学名誉教授）
講義内容：

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本技術講座は、光学分野に携わる研究者や技術者がAI技術に関する基礎知識を習得し、光学分野に関連する応用事例に学ぶことを目的として企画したものである。
基礎編では、AI技術の中でも工学的応用で重要となる機械学習を中心に、数学的基礎から機械学習の原理、ニューラルネットワーク、そして、深層学習モデルを解説する。
さらに、個人での学習のための開発環境についても紹介する。応用編では、具体的な応用例として、イメージングに関連する事例2件とレーザー加工に関する事例を取り上げる。
各講義は、光学分野において早くから自身でAI技術応用に携わってこられた講師が担当し、具体的なAI技術の活用法、技術者が直面する課題などについて解説いただく。

会期：2025年11月予定　［1日］
時間：9:30～17:50
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：

鈴木裕之氏（群馬大学 教授）
中村友哉氏（大阪大学 准教授）
渡邉恵理子氏（電気通信大学 教授）
長谷川智士氏（宇都宮大学 准教授）

講義内容：

Ⅰ．基礎編
１．機械学習の基礎（鈴木先生）
Ⅱ．応用編
２．レンズレスイメージング・画像再構成（中村先生）
３．シングルピクセルイメージングへの応用（渡邉先生）
４．補償光学とレーザー加工への応用（長谷川先生）

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）
参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では深層学習の代表格である畳込みニューラルネットワークを念頭において、画像処理の基本となる2次元畳み込み型の画像フィルタに光を当てるとともに、従来用いられてきた画像における各種の不変特徴の概念とその抽出手法についても概観する。最後に、深層学習方式も含め、機械学習による画像処理の事例について紹介する。

会期：2025年9月予定　［計2日間］
時間：10:00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：長橋　宏氏（東京工業大学名誉教授）
講義内容：

　

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では、新しい時代の画像の評価、解析について基礎から応用まで筆者の長年の研究に基づいてパワーポイントによるテキストを用いて判りやすく講述する。
これからこの分野に従事される方はもちろん、すでに実務を担当されており、さらに　理解を深めたい方にも、ぜひ受講されることをお勧めいたします。

会期：2026年2月予定　［計2日間］
時間：10:00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：三宅洋一氏（千葉大学名誉教授）
講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座では、色を数値化する国際的な規格であるCIE（国際照明委員会）の表色系について、その原理から最新に規格に至るまで分かりやすく解説する。
また、基礎編として、表色系の持つ意味、使い方を詳しく解説する。
応用編では、画像の色再現におけるCIE表色系の利用、錐体分光感度に基づく新しい表色系、さらには照明の分野における演色評価法の最新の情報を紹介する。

会期：2025年12月予定［1日］
時間：10:00～17:00
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：矢口博久氏（千葉大学名誉教授）
講義内容：

定員：25名（うち対面は先着順で10名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）

目的：本講座は、主に光学技術者を対象に、新たなイメージング技術として注目されているコンピュテーショナルイメージングについて、その概要を知ってもらうためのものです。情報処理技術の進展に伴い、光学技術と演算処理の組み合わせによる多様なイメージング技術が提案されています。そこで、コンピュテーショナルイメージングの現状を俯瞰し、その理解に必要となる基礎知識を説明します。その上で、画像処理、光線操作、信号理論など演算処理に着目した分類を行い、各種の方式を紹介します。また、コンピュテーショナルイメージングを効率的に実装するための周辺技術についても取り上げます。この講座を受けることにより、新たな手法や技術に対応可能な基礎力を習得することを願っています。

会期：2025年9月予定　［1日］
時間：10：00～16：30
会場：

（1）機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内
（2）オンライン（Microsoft Teams）

講師：谷田　純氏（大阪大学　大学院情報科学研究科 特任教授）
講義内容：

定員：35名（うち対面は先着順で16名となります。）

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：「逆問題」という単語を聞いても、馴染みの無い方が多いのではと思いますが、「機械学習は、コンピュータを使った逆問題のこと」と表現するとイメージが湧くので、と推測します。今回は、計測に逆問題手法を適用し、そこにDeep Learningを使用した入門者向けの内容に関して、演習付きで開催します。
本講座では、非線形モデルの重回帰に関して、エクセルのソルバーと言う機能を 使って「Shallowな」モデルを最適化する過程をお見せして、モデルを作成する ための関数、手法をご紹介するとし、適用の対象は計測とします。
なお､演習としてエクセル2019以降を使用できるNote PCをお持ち頂いてその場にて、実際にモデルの作成をご自分でご検討して頂きます。

会期：2026年10月予定　［半日］
時間：13：00～16：30
会場：機械振興会館 別館4階館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

講師：稲　秀樹氏（一般社団法人光融合技術協会 理事）
講義内容：

　

定員：10名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、光学素子加工の自動化及び応用分野の発展をはかる上で、欠くことのできない要素技術について、基礎的な総合研修を行うことを目的とした基礎コースです。
また、本講座は今後の重要技術である光学素子の加工及び計測技術の培養と時代に対応した発展を図るため、学識経験者の協力を受け、関連メーカーの教育担当部門と共同して実施しております。
なお、光学素子加工技術の転換期に当たって当協会会員各社のグループ企業の方々にも受講していただくよう、参加費が当協会会員会社と同額になります。

会期：2025年10月予定［計3日間］
時間：初日；10：00～17：00　二日目；9：00～16：50　三日目；9：00～16：30

会場：機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

講師：

加藤秀昭氏（加藤技術士事務所）
立和名一雄氏（HOYA株式会社）
三原伸一氏（光学設計技術コンサルタント）
奥島賢一氏（キヤノン株式会社）
小久保光典氏（芝浦機械株式会社）
松本正人氏（ユシロ化学工業株式会社）
三浦直之氏（アメテック株式会社）
秋葉正博氏（株式会社トプコン）
石和黎威氏（協立化学産業株式会社）
喜藤寛文氏（オリンパス株式会社）
柳沢剛氏（光学コンサルタント）

講義内容：

１日目
1．プラスチック光学素子の加工　（加藤秀昭先生）
2．光学材料と加工　（立和名一雄先生）
3．光学素子の種類、機能、所要精度　（三原伸一先生）
2日目
4．平面・球面研磨及び心取り　（奥島賢一先生）
5．非球面ガラスプレス加工　（小久保光典先生）
6．洗浄　（松本正人先生）
7．Luphoscanによる完全非接触式形状測定　（三浦直之先生）
3日目
8．表面処理　（秋葉正博先生）
9．接着剤・紫外線硬化型接着剤の基礎　（石和黎威先生）
10．検査・測定　（喜藤寛文先生）
11．光学素子への諸要求精度及び品質安全化　（柳沢剛先生）

定員：16名
参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、今後様々な分野でニーズが高まる光学薄膜技術の基礎から応用までを取り扱います。
また、毎年、受講者のご意見を基に見直しを図っており、今年度も光学薄膜設計シミュレーションソフトとして人気の高いTF Calcを用いて、受講生1名に対してパソコンを1台をご用意して、光学薄膜に対する実践的な技術習得を目指します。
※最新の薄膜設計ソフト（TFCalc）で薄膜設計を体験学習していただくため、パソコンを1人に1台貸与し、さらに研修効果を高めるために講義で使うソフトのデモ版を事前にお送りいたします。

会期：2025年11月26日（水）～27日（木）　［計2日間］
時間：初日　9:30～17:40　二日　9:00～17:00
会場：機械振興会館 別館4階（当協会研修室）（東京都港区芝公園3-5-22）　会場案内

講師：

岩堀恒一郎氏 （株式会社ニコン　生産本部 技術統括部 第一技術開発部 第二開発課）
生水利明氏（一般社団法人光融合技術協会 理事）
臼井 巖氏 （光学コンサルタント）
青木智則氏 （株式会社ソルテック）

講義内容：

秋山先生

生水先生

臼井先生

青木先生

定員：10名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

目的：本講座は、発展著しい「ナノ領域の光学」を、基礎から分かりやすく解説する。
講座は5つのチュートリアルから構成されており、どの項目もその分野の最先端で活躍中の先生方に、屈折率分散や群屈折率の概念から、ナノ光学に特有な現象の原理の理解と、それらの制御をもとにした様々な応用まで系統的な解説をお願いしております。ナノ領域の光学を基礎から応用まで学びたい若手技術者、新しい光学の応用を目指す光学設計者にとって最適かつコンパクトな講座である。

会期：2026年1月予定　［1日］
時間：10：00～16：40
仮想会場：オンライン（Microsoft Teams）

講師：

岩本　敏氏　（東京大学　先端科学技術研究センター 教授）
髙原淳一氏　（大阪大学　大学院工学研究科 教授）
菊田久雄氏　（大阪公立大学名誉教授）
田中拓男氏　（国立研究開発法人理化学研究所　田中メタマテリアル研究室　主任研究員）
田丸博晴氏　（東京大学　大学院理学系研究科 特任准教授）

講義内容：

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

◎「ナノ領域の光学」基礎編

目的：本講座では、2021年度まで開催していた「ナノ領域の光学入門」の参加者の要望に応えて2022年度から新しく企画したものである。「ナノ領域の光学入門」の講義内容を踏まえて、ナノ光学で生み出される特異な光学現象や光学機能がどのような技術に応用できるかを解説する。講座では、2021年度まで開催した「ナノ領域の光学入門」の内容を繰り返して講義しないので、「ナノ領域の光学入門」の内容を習得済みの若手技術者や、本年度開講する「ナノ領域の光学」基礎編を受講される方、これからナノ光学技術の応用を目指す光学設計者にとって最適かつ効率良く最新応用技術を学ぶ事が出来る講座になっている。

会期：2026年1月予定　［1日］

時間：10：00～16：40

仮想会場：オンライン（Microsoft Teams）

講師：

岩本　敏氏　（東京大学　先端科学技術研究センター 教授）

久保若菜氏　（東京農工大学　大学院工学研究院 先端電気電子部門 教授）

矢野隆章氏　（徳島大学　ポストLEDフォトニクス研究所 教授）

岩見健太郎氏　（東京農工大学　大学院工学研究院 先端機械システム部門 准教授）

田中拓男氏　（国立研究開発法人理化学研究所　田中メタマテリアル研究室）

講義内容：

定員：35名

参加費：（テキスト代を含む）（予定）

◎「ナノ領域の光学」応用編

目的：光の波長よりも小さな微細構造「メタ原子」を様々な基板上に配列したメタサーフェスは近年急速に実用化が進んでおります。また、その応用であるメタレンズは従来にはない光学特性を有し、光学機器の革新的な小型薄型化等を実現できるため、産業化への期待も大きく膨らんでおります。本セミナーは、メタサーフェスとメタレンズについての知見を広げ、理解を深めることを目的として開催いたします。当分野を牽引する第一線の研究者・技術者により、原理から設計・製造技術、最新の具体的応用事例として大容量光通信デバイス、バイオセンサ等のセンシング技術、イメージング技術、次世代ARグラス等、その将来展望についても解説いたします。多数のご参加をお待ちしております。

会期：2026年5月14日（水）　［1日］

時間：9：30～17：00

仮想会場：オンライン（Microsoft Teams）

講師：

岩見健太郎氏　 （東京農工大学 大学院工学研究院　先端機械システム部門　准教授）

種村拓夫氏 　（東京大学 大学院工学系研究科 教授)

宮田将司氏 　（日本電信電話株式会社　NTT先端集積デバイス研究所）

岩長祐伸氏 　（国立研究開発法人物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター）

ユンデヨル氏　 （日本シノプシス合同会社 アプリケーションエンジニアスペシャリスト) 

雨宮智宏氏　 （東京科学大学 工学院 電気電子系 准教授)

講義内容：

定員：50名

参加費：（テキスト代を含む）